Messgerät mit Hub-Sprühreinigung LHC-7D
Messvorrichtung mit kombinierter Reinigungsfunktion, u. a. Wasserstrahlreinigung und Reinigung mit Chemikalienlösung
- Originalware, zehnfacher Ersatz bei Fälschung
- Gerätegarantie, lebenslange Wartung
- Lagerbestand, Versand am selben Tag
Messvorrichtung mit kombinierter Reinigungsfunktion, u. a. Wasserstrahlreinigung und Reinigung mit Chemikalienlösung
Die Messvorrichtung wird aus dem Probenwasser angehoben und abwechselnd mit Reinigungswasser und Chemikalienlösung (z. B. 5 % Salzsäure) besprüht, um sie zu reinigen.
| Parametername | Technische Daten |
|---|---|
| Produktinformationen | |
| Produkttyp | Basis-Prozessmessgerät |
| Modell | LHC-7D |
| Messparameter | pH, ORP |
| Einsatzbereiche | Industrieprozess |
| Spezifikationspunkte | |
| Punkt 1 | Die Messvorrichtung wird aus dem Probenwasser angehoben und abwechselnd mit Reinigungswasser und Chemikalienlösung (z. B. 5 % Salzsäure) besprüht, um sie zu reinigen. |
- Messvorrichtung mit kombinierter Reinigungsfunktion, u. a. Wasserstrahlreinigung und Reinigung mit Chemikalienlösung
- Die Messvorrichtung wird aus dem Probenwasser angehoben und abwechselnd mit Reinigungswasser und Chemikalienlösung (z. B. 5 % Salzsäure) besprüht, um sie zu reinigen.
- Reduziert den Wartungsaufwand und ermöglicht eine langfristig stabile pH-/ORP-Messung
- Erhältlich als Eintauch- und als Probenentnahme-Messvorrichtung
pH-Überwachung am Ablauf industrieller Abwässer
Installation eines pH-Meters und einer Elektrode am Ablauf, kontinuierliche Überwachung und Ausgabe von (4~20)mA an die Umweltüberwachungsplattform, Alarm bei Grenzwertüberschreitung.
pH-Regelung im Reinwasserherstellungsprozess
pH-Überwachung am Ausgang der Umkehrosmose oder des Ionenaustauschers, gekoppelte Dosierpumpe zur Aufrechterhaltung einer stabilen Wasserqualität.
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